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          多弧離子鍍在不銹鋼板上沉積TiN的均勻性研究

          來源:浩穰環保     瀏覽:640     發布日期:2020-11-17

          多弧離子鍍是為了獲得良好的繞射性而開發出來的一種鍍膜工藝,這種工藝可以用來制備金屬膜、合金膜、化合物膜及多層結構膜。由于該技術具有較高的金屬離化率和較高的離子能量,因而可以提高涂層的均勻性和附著性,目前已經成為沉積TiN裝飾膜的最佳工藝。

          多弧離子鍍雖然具有良好的繞射性,可以鍍各種形狀的裝飾品,但要在建筑裝飾用的大面積不銹鋼板基片上得到均勻的TiN涂層,并不是件容易的事,需要在鍍膜工藝參數的選擇上做許多文章。

          弧與基片間的距離對離子鍍涂層的均勻性影響較大?;』噙^小,粒子在到達基片之前的碰撞次數太少,散射作用減弱,涂層的均勻性下降;弧基距過大,不僅浪費空間,增加不必要的排氣時間,而且使粒子到達基片時能量過小,涂層的牢固度又下降。理論和實驗均證明,當弧基距在200mm以上時,即可達到希望的膜厚均勻性。

          磁場強度與涂層的均勻性關系密切,眾所周知,在弧源系統中設置磁場可以改善電弧源的性能,使電弧等離子體加速運動,增加陰極發射電子和離子的數量,提高束流的密度和定向性,減少微小溶滴的含量,但是磁場的強度要適中,過強會使粒子流過于集中,涂層的均勻性下降;過弱又容易造成熄弧,達不到穩定電弧的作用。

          實驗表明,源材表面磁場強度的最大水平分量在20~35Gs時為最佳,使用前所有弧源材表面的磁場強度需要用高斯計統一調整一致,隨著源材的消耗,源材表面因距磁鐵距離變小而使磁場強度增大,所以有必要根據源材的消耗情況定期調整其表面的磁場強度,對于表面形態缺陷嚴重的源材要進行重新加工。


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