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          HiPIMS(高功率脈沖磁控濺射)離子鍍涂層設備
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          HiPIMS(高功率脈沖磁控濺射)離子鍍涂層設備
          HiPIMS(高功率脈沖磁控濺射)離子鍍涂層設備

          HiPIMS(高功率脈沖磁控濺射)離子鍍涂層設備

          選擇HiPIMS(高功率脈沖磁控濺射)技術,為您解除磁控濺射時繞鍍性差、涂層內應力大,以及多弧離子鍍時大顆粒噴濺、易造成產品熱損傷的憂慮。 集磁控濺射離子鍍涂層致密光滑和多弧離子鍍均勻繞鍍性好等優點于一體,HiPIMS(高功率脈沖磁控濺射)將是您的不二選擇。

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          產品詳情

          當前磁控濺射離子鍍存在繞鍍性差、涂層內應力大,多弧離子鍍存在大顆粒噴濺、易造成產品熱損傷的技術缺憾;

          氣體放電伏安特性曲線中存在異常輝光放電向弧光放電轉變的過渡區間,采用HiPIMS(高功率脈沖磁控濺射)電源,瞬時的高功率脈沖能量將氣體放電維持在轉變的臨界狀態;

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          ? 精益求精的真空系統,裝備上澎湃的HiPIMS(高功率脈沖磁控濺射)電源動力,輔以合理的磁場設計,使鍍料粒子的脫靶機制由碰撞脫靶向熔融噴濺脫靶轉變。