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          HiPIMS(高功率脈沖磁控濺射)電源
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          依托南京工業大學和西安理工大學蔣百靈教授的科研團隊,為您提供專業的設備集成制造,及技術咨詢顧問等一站式服務。

          17792509711

          產品詳情

          成熟的系統;


          成熟的工藝;


          助力您獲得優質涂層。

          針對當前基于直流氣體放電伏安特性曲線為設計依據發展而來的磁控濺射離子鍍技術存在鍍層厚度分布不均及鍍料粒子繞鍍性差的工藝缺憾,本項目擬采用高頻脈沖電場將氣體放電狀態由正常輝光放電區間引入介于異常輝光放電與弧光放電之間微弧放電狀態,通過瞬間高功率放電在陰極靶面產生的熱效應實現鍍料粒子的產出機制由級聯碰撞向熱振蒸發轉變,使鍍料粒子的離化率提高,達到在真空腔內不同空間位置處制備厚度均一化鍍層的效果。由于氣體微弧放電的非穩態特征,因此高頻脈沖電場的主要起將此非穩態過程穩定維持的作用,且通過調節脈沖幅值、寬度和頻率等因素達到控制弧斑強度和尺寸的目的,在保證鍍料粒子高離化率的同時也防止產生影響鍍層質量的大液滴。

          將此集濺射離子鍍膜層致密光滑和多弧離子鍍均勻繞鍍性好等優點于一體的微弧離子鍍技術中最核心的微弧控制技術應用于微弧氧化工藝這一典型的“液固界面”氣體放電環境,使兩種微弧放電條件的高頻脈沖電場實現理論統一,硬件設備實現一機兩用。